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晶圓去膜液

REM-3662 去膜劑是一種用于Wafer Bumping的專業液,獨特的產品組分能夠加速剝離,不攻擊錫(或者錫鉛),特別適用于高密度錫球工藝制程。
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產品描述

產(chan)品描述 

REM-3662去膜劑(ji)是一種用于(yu)Wafer Bumping的專業液,獨特的產品組分能夠加速剝離,不攻擊錫(或者錫鉛),特別適用于高密度錫球工藝制程。


產品優點(dian)

1.高速剝離;

2.不攻擊(ji)錫(xi)(或者(zhe)錫(xi)鉛);

3.統(tong)一的剝(bo)離速度(du),非(fei)常適合制程(cheng)管理;

4.工作液壽(shou)命(ming)長;

5.槽(cao)液簡單易操作;

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物理參(can)數

1.外(wai)觀(guan):澄清至棕黃色液(ye)體

2.氣(qi)味(wei):特(te)征氣(qi)味(wei)

3.儲存溫度:5–35℃

4.含(han)水率:<1.0%


槽液配制

1.100%原(yuan)液配槽使用(yong)

2.工作(zuo)液溫度:90–100℃


設備條件(jian)

1.工作槽:不銹鋼

2.加熱(re)器:鐵(tie)氟龍(long)

3.抽(chou)風設備:需要,可以(yi)選裝風量檔(dang)位裝置

 

槽液分(fen)析(xi)

1.工(gong)作液(ye)濃(nong)度:

a.試劑:0.1 N HCl,溴(xiu)酚綠和甲基紅指示劑

b.步(bu)驟:

(1)移取1ml工(gong)作液,置于(yu)250ml錐形(xing)瓶內;

(2)加入(ru)100ml純(chun)水稀釋;

(3)滴(di)入各5滴(di)溴(xiu)酚綠和甲基(ji)紅指示劑(ji);

(4)用0.1N HCl滴定,由綠色(se)至(zhi)橙-粉紅(hong)色(se)終點。

公式:REM 3662濃度(du)(du)(N) = ml HCl * N HCl   (工作液濃度(du)(du):0.7–1.3 N)

2.水分檢(jian)測:

卡(ka)式(shi)水分儀:取(qu)1-2ml的(de)工作液,

按照正常的操作流程讀取讀數 (含水率:<1.0%)


安全守則

任何公司或操作(zuo)人員在使(shi)用(yong)前, 需先參考物料(liao)安全資料(liao)表以確保使(shi)用(yong)者安全。